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鎳靶可通過真空濺射形成膜層,用于磁存儲介質(zhì)、半導體、LED等行業(yè)器件鍍膜。

元素符號:Ni
純度:4N+
形狀:平面靶;旋轉(zhuǎn)靶
外觀:銀色金屬
典型密度:8.94g/cm3
常規(guī)尺寸:平面靶: 2400x500x30mm
旋轉(zhuǎn)靶: L3000mm
其它尺寸可定制